сегодня в 22:25
В пресс-релизе компании сказано, что рекордного результата удалось добиться с помощью оптимизации процесса выращивания крошечных кристаллов магнитного покрытия методом магнетронного распыления. Размер одного такого кристалла составил всего 7,7 нм против нескольких десятков нанометров у современных плёнок стандарта LTO-6.
Подробности новой технологии будут раскрыты на конференции Intermag Europe 2014, которая пройдёт в Дрездене с 4 по 8 мая.
Только зарегистрированные пользователи могут оставлять комментарии. Войдите, пожалуйста.
This entry passed through the Full-Text RSS service — if this is your content and you're reading it on someone else's site, please read the FAQ at http://ift.tt/jcXqJW.
Комментариев нет:
Отправить комментарий